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冠層NDVI測定儀對(duì)玉米生長的分析表明

發(fā)布時(shí)間:2017-07-20 點(diǎn)擊次數(shù):3536 文章來源:原創(chuàng)

    冠層NDVI測定儀是托普云農(nóng)為人們進(jìn)一步探索植物冠層而研發(fā)的專用設(shè)備。它能有效分析計(jì)算出葉面積指數(shù)、歸一化植被指數(shù)、植輻射指數(shù)和氮數(shù)含量,對(duì)評(píng)估植物葉片生理及病害狀況十分有用。

 

冠層NDVI測定儀


    為研究一種快速有效獲取玉米葉綠素空間分布信息的方法,曾有農(nóng)業(yè)人士就研究了玉米苗期冠層葉片光譜反射率的變化特征,分析了不同生長階段冠層葉片光譜反射率的空間分布和葉綠素質(zhì)量濃度的空間分布。據(jù)冠層NDVI測定儀的測量分析表明:玉米苗期冠層葉片葉綠素的質(zhì)量濃度空間分布不均勻。冠層葉片的葉綠素質(zhì)量濃度與光譜指數(shù)RVI的相關(guān)性較低,與歸一化差異植被指數(shù)NDV1值和550 nm波段的反射率均有較高的相關(guān)性。分析550nm波段的反射率值與冠層葉片葉綠素質(zhì)量濃度值的相關(guān)關(guān)系,顯示二者成負(fù)相關(guān)變化趨勢,相關(guān)系數(shù)絕對(duì)值在0.69~0.88范圍隨著生長期的變化而逐漸增大,五葉期前期的相關(guān)性系數(shù)絕對(duì)值達(dá)到苗期最大值,表明550nm波段反射率值能夠較好的反映玉米苗期葉綠素質(zhì)量濃度的水平,分析和掌握550nm波段反射率值的變化及其空間分布特性對(duì)快速監(jiān)測玉米苗期生長狀況,對(duì)指導(dǎo)田間施肥具有重要意義。
    由此也可以看出,冠層對(duì)玉米生長的影響,依據(jù)冠層NDVI測定儀的測量分析,不僅能有效判斷出生長狀況,還能檢測出葉片葉綠素的質(zhì)量濃度,為田間施肥管理提供了科學(xué)依據(jù),最終提高玉米的產(chǎn)量和品質(zhì)。


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